近日，有消息稱受英特爾與三星等競爭壓力所致，國際ic代工制造龍頭臺積電將加快先進工藝開發量產步伐，除加速南科廠16納米產能布建之外，還將加快10納米生產線的建設，計劃于明年下半年完成10納米的產品設計，2016年下半年量產。隨著集成電路工藝逐漸接近物理極限，技術難度加大，摩爾定律一度逐漸減慢，這也在一定程度上給了我國ic產業追趕國際先進水平的機會。然而，受到競爭加劇影響，業內龍頭大廠在先進制程推進上似乎又有重新加速的跡象。這是否將導致我國大陸ic代工制造水平與國際先進水平之間的差距進一步拉大呢?

　　根據臺積(ji)電在近日(ri)舉辦的(de)法(fa)說會上發(fa)布的(de)技術路線圖，臺積(ji)電16納(na)米(mi)(mi)工(gong)藝(yi)(yi)預計在明(ming)年第一季度(du)(du)拉升至(zhi)每月5萬片(pian)，由(you)此量(liang)產(chan)(chan)時(shi)程可望提前(qian)至(zhi)明(ming)年第二(er)季度(du)(du)，比預定時(shi)間提前(qian)一個季度(du)(du);10納(na)米(mi)(mi)工(gong)藝(yi)(yi)從2013年開始進行技術開發(fa)，計劃(hua)明(ming)年第一季度(du)(du)于中科廠(chang)建置(zhi)10納(na)米(mi)(mi)試產(chan)(chan)線，量(liang)產(chan)(chan)時(shi)程則落在2016年下半年。不(bu)過受制(zhi)于euv技術的(de)輸出率仍(reng)未達到量(liang)產(chan)(chan)需求，屆時(shi)10納(na)米(mi)(mi)工(gong)藝(yi)(yi)仍(reng)將采用多重曝光的(de)方式，并集中于12英(ying)寸晶圓廠(chang)生產(chan)(chan)。

　　集成(cheng)(cheng)電路芯片(pian)制(zhi)造業(ye)是集成(cheng)(cheng)電路產(chan)業(ye)鏈的(de)(de)(de)(de)核心(xin)主體，大力發(fa)(fa)(fa)展集成(cheng)(cheng)電路芯片(pian)制(zhi)造業(ye)一(yi)(yi)直(zhi)是我國(guo)推進(jin)集成(cheng)(cheng)電路產(chan)業(ye)的(de)(de)(de)(de)重要方向(xiang)之一(yi)(yi)。一(yi)(yi)直(zhi)以來，在(zai)先(xian)進(jin)工(gong)藝(yi)(yi)方面，我國(guo)大陸制(zhi)造技術與(yu)(yu)先(xian)進(jin)水(shui)平(ping)的(de)(de)(de)(de)差(cha)(cha)距大體相(xiang)差(cha)(cha)2代。目前，中(zhong)芯國(guo)際最(zui)先(xian)進(jin)的(de)(de)(de)(de)制(zhi)造技術為40納(na)(na)米(mi)(mi)，與(yu)(yu)國(guo)際先(xian)進(jin)水(shui)平(ping)相(xiang)差(cha)(cha)1.5代，實(shi)際已(yi)經追近(jin)了一(yi)(yi)步，至(zhi)少是沒(mei)有被落下。而中(zhong)芯國(guo)際的(de)(de)(de)(de)28納(na)(na)米(mi)(mi)工(gong)藝(yi)(yi)有望于今年(nian)年(nian)底進(jin)行試(shi)量(liang)產(chan)，明年(nian)初實(shi)現(xian)量(liang)產(chan)。這(zhe)樣，與(yu)(yu)臺(tai)積電仍將(jiang)保持1.5代到(dao)2代的(de)(de)(de)(de)差(cha)(cha)距(將(jiang)視臺(tai)積電16納(na)(na)米(mi)(mi)工(gong)藝(yi)(yi)量(liang)產(chan)是否順(shun)利(li)而定)。同時，中(zhong)芯國(guo)際也(ye)在(zai)開發(fa)(fa)(fa)14納(na)(na)米(mi)(mi)、10納(na)(na)米(mi)(mi)的(de)(de)(de)(de)工(gong)藝(yi)(yi)技術，根據計劃，預計在(zai)2016年(nian)到(dao)2017年(nian)可實(shi)現(xian)14納(na)(na)米(mi)(mi)的(de)(de)(de)(de)工(gong)藝(yi)(yi)開發(fa)(fa)(fa)，順(shun)利(li)的(de)(de)(de)(de)話可能進(jin)行試(shi)產(chan)。這(zhe)樣算來，并沒(mei)有與(yu)(yu)先(xian)進(jin)水(shui)平(ping)拉大差(cha)(cha)距。

　　其實(shi)，ic制(zhi)(zhi)(zhi)造(zao)的(de)(de)(de)(de)(de)競爭不僅表(biao)現在(zai)(zai)先(xian)進工藝的(de)(de)(de)(de)(de)開(kai)發與量產上(shang)，僅僅是因為它更(geng)引人注目。實(shi)際(ji)上(shang)，我國(guo)(guo)(guo)ic制(zhi)(zhi)(zhi)造(zao)的(de)(de)(de)(de)(de)弱(ruo)勢更(geng)多存在(zai)(zai)于設(she)計服務能(neng)力(li)和支(zhi)持體系的(de)(de)(de)(de)(de)不完善之(zhi)上(shang)。隨著技(ji)術的(de)(de)(de)(de)(de)發展，當前ic設(she)計、制(zhi)(zhi)(zhi)造(zao)、ena工具，甚至(zhi)(zhi)是封裝的(de)(de)(de)(de)(de)工藝流(liu)程(cheng)，有越(yue)(yue)來越(yue)(yue)多相互(hu)融合的(de)(de)(de)(de)(de)趨勢，衡量ic制(zhi)(zhi)(zhi)造(zao)業(ye)實(shi)力(li)強弱(ruo)的(de)(de)(de)(de)(de)重點(dian)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)多地體現在(zai)(zai)企(qi)業(ye)是否(fou)能(neng)夠(gou)建立起完整的(de)(de)(de)(de)(de)設(she)計服務和支(zhi)持體系，是否(fou)能(neng)夠(gou)充分進行(xing)ip核的(de)(de)(de)(de)(de)研發以滿足(zu)工藝開(kai)發需(xu)求，甚至(zhi)(zhi)更(geng)高地建立在(zai)(zai)對設(she)計方法學的(de)(de)(de)(de)(de)理解程(cheng)度之(zhi)上(shang)。而國(guo)(guo)(guo)內很多ic制(zhi)(zhi)(zhi)造(zao)廠(chang)在(zai)(zai)這些方面都存在(zai)(zai)明顯(xian)不足(zu)。這些軟硬實(shi)力(li)的(de)(de)(de)(de)(de)補足(zu)，才是我國(guo)(guo)(guo)ic制(zhi)(zhi)(zhi)造(zao)企(qi)業(ye)下一步亟(ji)須強化的(de)(de)(de)(de)(de)重點(dian)。